若何准确懂得mos管衬底偏置效应
信息来历：本站 日期：2017-08-16
图1. 33所示电路为例，分解衬底偏置效应的发生。
因为MOS晶体管M1的源极与基底都接地，以是不爆发衬底偏置效应。而M2源极的电位VS比接地的基底的电位VB=0要高，这就象征着VSB>0。其成果，M2爆发基底偏置效应，使M2的阈值电压比M1高。
NMOS晶体管的阈值电压VTN、PMOS晶体管的阈值电压VTP别离由下式给出：
式中，VTO是VSB=0时（即不发牛衬底偏置效应时）的阈值电压。它的极性在NMOS中是VTO>0，对于PMOS是VTO
式中，q是电子电荷，1.6X 10-19［C］；εsi是硅的绝对介电常数，εsi= 11.7；Nsub是衬底（阱）的杂质浓度。γ越大，表现衬底偏置效应越强。对于NMOS和PMOS来讲，与阈值电压有关的参数的极性是不同的，表1.1列出这些参数及其极性。
下面引出了多个物理参数。不过主要的是：当源极—基底间的pn结加反向电压时，MOS晶体管的阈值电压会回升。
