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芯片结温阐发,芯片结温计较、公式-KIA MOS管

信息来历:本站 日期:2023-11-03 

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芯片结温阐发,芯片结温计较、公式-KIA MOS管


芯片结温(Tj):

结温(Junction Temperature)是芯片中开关MOS管等器件的现实任务温度。芯片外部是因为一堆资料做成的各类细小的元器件,有细小的MOS,二极管,集成电阻,电容等等,它们在颠末电流时,也会发烧,特别在一些过大电流的功率芯片的利用中,结温就成了一个必须斟酌的参数,跨越了就会使这些外部元器件破坏,因为这些外部的布局器件间隔芯片外部另有封装断绝,是以它凡是高于外壳温度(Case Temperature)高。也便是会高于芯片标定的任务温度。


结温发生机制

结温首要发生在PN结地区。

从PN结制作工艺上,焦点道理是按照杂质弥补,经由过程搀杂取得,以下图, P-type 搀杂和 N-type 搀杂打仗后,中间构成一个耗尽区(或称为空间电荷区,以下图右上);两个的交代线四周构成一个PN结(以下图左上)。

芯片结温,芯片结温计较

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起首,电子空穴的复合也是一个发烧是结温的首要热源;复合遵守能量守恒准绳,电子和空穴复合时应开释必然的能量,最初在外部都转换为热能。


复合频次越高发生热越高,随之会加快载流子速度μ,电场E绝对稳定,复合率和结温构成闭合正反应,致使结温延续降低。


其次,PN结的工艺也不能够极度完善,电子/空穴的的注入效力达不到100%, 即在任务时除P区向N区注入电荷(Hole)外,N区也会向P区注入电荷(Electron);一样也会致使结温降低。


最初,器件两头的阴极Cathode,阴极Athode 2个的欧姆打仗(ohmic contact)会发生热量,两头构成热樊篱,障碍外部的热量更难实时经由过程热传导体例消失,一样会致使外部结温降低。

以是若是但愿保障器件任务一般,务必保障芯片结温在可蒙受规模内。


芯片结温计较

热阻参数先容

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RθJA 值越大,表现此 封装的散热效力越低,而值越小,表现器件散热效力越高。 封装尺寸越小,RθJA 值凡是越大。如上图DCK(SCK70)热阻307.6°C/W,象征着芯片每耗损1W,芯片温度就会降低 307.6°C 。

表中倡议的芯片任务结温介于 -55°C 至 150°C 之间。


结温计较公式:

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此中 TJ 为结温,TA 为情况温度,RθJA 为热阻(取自数据表),PD 为功耗,Iground 为接地电流(取自数据表)。


上面给出一个简略示例,利用 TPS732 将 5.5V 电压下调至 3V,输入电流为 250mA,接纳 SOT-23 和 SOT-223 两种封装。

PD=[(5.5V-3V) x 250mA] + (5.5V x 0.95mA) = 0.63W

SOT - 23: TJ = 25°C + (205.9°C/W x 0.63W) = 154.72°C

SOT - 223: TJ = 25°C + (53.1°C/W x 0.63W) = 58.45°C


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