【具体阐发】MOS管vd、vdsat和region的干系-KIA MOS管
信息来历:本站 日期:2022-09-07
仿真获得的region寄义
region=0,1,2,3;别离对应MOS管的停止区,线性区,饱和区和亚阈值区。
Vgs为3.3,扫描Vd
MOS管的源端和漏端别离接Vg和Vd,可设置Vg为3.3V,Vd为变量,设置变量Vd值为3.3V,dc仿真并对design variable ——Vd停止扫描,扫描规模挑选0-3.3V,扫描体例挑选线性,【automatic体例不精确,尽可能防止利用】,step size可挑选0.01,如许仿真设置就完成了。
接上去设置仿真完成后的输出,ADE→output→to be saved→select OP Parameters,在电路图中挑选须要观察的MOS管,而后ADE的右下角会呈现Save Operating Points窗口,挑选输出OP参数有两种体例,
1.在Operating Parameters下边的框中输出vds vdsat vgs vth vgt region【仿真成果证实vgt=vgs-vth,以是也能够只输出vgt而省略vgs和vth啦】,中间用空格离隔,都是小写字母,【发明了碰到过的cadence中离隔两个变量的都是空格,比方给线打label时也是用空格离隔】
2.也能够点Operating Parameters下边的框的三个点点···,点击get information,挑选须要输出的参数便可。
输出OP参数挑选完成以后,选上Plot,使其仿真完成后自动plot。
而后挑选Outputs→to be plotted→select on design,挑选Vd。如许输出也设置好了。
tsmc.18工艺中,最小尺寸的NMOS,vd>vdsat时,region由1变为2。(Vgs=3.3V)
为了保障PVT下,管子处于饱和区,vd须要比vdsat大某个经历值。
vov=vgs-vth=vgt,从plot获得的图中能够看到在vds到达vgt之前,就已进入了饱和区(region=2),这是因为短沟道器件中的速率饱和效应致使的。
Vd为3.3,扫描Vgs
除扫描变量设置差别,vd=3.3V,对vg停止扫描,其余就和上述步骤一样。
而后发明对tsmc.18,nmos3v_mac最小尺寸W=2u,L=350n的管子,跟着Vg的增添,vgt也以一样斜率增添,NMOS顺次进入停止区、亚阈值区、饱和区,当-261mV<vgt<0V时,NMOS处于亚阈值区,当vgt>0时,进入饱和区。
为了完成低功耗,凡是使缩小器输出对督工作在亚阈值区,能够在使vgt在上述亚阈值规模内取值。
也能够在OP参数里加上id,看看MOS督工作在亚阈值区和停止区的电流环境,能够发明,跟着vgt的增添,id一向是增添的趋向,在停止区和亚阈值区增添较缓,在饱和区增添较快:
在停止区内在跟着vgt增添,id从46.88f增添到31.85n,在亚阈值区,id增添到约5u,在饱和区,当vg为3.3V时,id增添到最大,约1.15m。
当尺寸变大时,电流也会随之变大。
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