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MOS管衬底电位接法|PMOS、NMOS衬底毗连-KIA MOS管

信息来历:本站 日期:2022-01-06 

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MOS管衬底电位接法|PMOS、NMOS衬底毗连-KIA MOS管


MOS管衬底电位接法


P-SUB工艺,NMOS 的衬底都是一样的,都是P-SUB,以是不能够将源极和衬底接一块,不然经由过程衬底短接会影响其余NMOS的特征,是以NMOS的衬底只能接GND(低电位);


P-SUB工艺,PMOS管的N衬底都是零丁的,是以能够将源极和衬底接一块来减小衬偏效应;


N-WLL工艺,PMOS的衬底都是一样的,都是N-WELL,是以不能够将源极和衬底接一块,不然经由过程衬底短接会影响其余PMOS的特征,是以PMOS的衬底只能接VDD(高电位);


N-WELL工艺,NMOS管的P衬底都是零丁的,是以能够将源极和衬底接一块来减小衬偏效应;


Deep Nwell,是在PSUB工艺环境下,对NMOS管能够采用的一种断绝体例,底部是deep nwell,四周是nwell构成的一个环,来断绝共衬底引发的噪声搅扰。


PMOS、NMOS衬底毗连


在schematic道理图中搭建电路时,一切pmos的衬底须要接VDD,一切nmos的衬底须要接VSS。


MOS管 衬底毗连


在layout幅员中,VDD供电时,挑选的通孔范例的M1_NW,由于PMOS器件做在N阱中。


MOS管 衬底毗连


绝对应,VSS供电挑选的通孔范例为M1_SUB。


MOS管 衬底毗连




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