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元器件常识-双极型功率晶体管-KIA MOS管

信息来历:本站 日期:2021-11-10 

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元器件常识-双极型功率晶体管-KIA MOS管


双极型功率晶体管

双极型功率晶体管(bipolar power transistor)最进步的一种功率晶体管,凡是简称功率晶体管。此中大容量型又称巨型晶体管,简称GTR。双极型功率晶体管通俗为功率集成器件,内含数十至数百个晶体管单位。


双极型功率晶体管


如图是功率晶体管的标记,其上e、b、c别离代表发射极、基极和集电极。按半导体的范例,器件被分红NPN型和PNP型两种,硅功率晶体管多为前者。


如图2是通俗NPN型器件局部布局的剖面。图中1为发射区,2为基区,3为集电区,4为发射结,5为集电结。


双极型功率晶体管


图3是其任务道理(对PNP型器件,则须要将两组电源极性反接),此中基极加0。6V摆布的正向偏压,集电极加高很多的反向偏压(数十至数百伏)。


发射结经由过程的电流,是由发射区注入到基区的电子构成的,这些电子的小局部在基区与空穴复合成为基极电流Ib,其他大局部均能分散到集电结而被其电场搜集到集电区,构成集电极电流Ic。


双极型功率晶体管


输入特征

图4是与图3绝对应的器件的共发射极输入特征,它反应了器件的基极节制感化及差别的Ib下,Ic与Vce之间的干系。从图4中看出,特征曲线较着分红3个区。


在线性区,Ic与Ib成比例并受其节制,器件具备缩小感化(倍数β=Ic/Ib);在停止区,器件几近不导电;在饱和区,器件的饱和压降仅在1~2V高低(因饱和区VCE太小,集电结电子搜集效力很低,器件落空缩小感化)。


双极型功率晶体管


20世纪50~60年月,功率晶体管首要是锗合金管。它建造简略,但耐压不高(几十伏),开关频次也较低(十几千赫)。80年月的大功率高压器件多数为硅立体管,用二次分散法制得。


此中GTR的容量是一切功率晶体管中最大的,80年月中期已有600A/150V、400A/550V、50A/1000V等几种。GTR的开关频次下限大抵为100千赫。


功率晶体管普遍利用于各类中小型电力电子电路作开关利用。GTR可用在如变频器、逆变器、斩波器等装配的主回路上。


因为GTR不必换流回路,任务频次也可比晶闸管最少高10倍,是以它能简化线路,进步效力,在几十千瓦的上述装配中能够代替晶闸管。但GTR的过载才能较差,耐压也不易进步,容量较小。


未接纳复合晶体管布局时,GTR的缩小倍数较低(10倍高低)。比起容量较低的功率场效应晶体管,GTR的开关频次较低(接纳复合布局时,频次仅为1千赫摆布)。以是,功率晶体管的利用遭到一些限定。


自80年月中期以来,GTR正向大容量、复合管及模块组件化等标的目的成长,将在几百千瓦或更大容量的装配中代替晶体管。




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